· 气缸加压，独立电机驱动变频控制，速度和压力精确控制。
· 磨盘红外温度感应及自动控制系统。
· 陶瓷盘自动定位功能，抛光盘自动清洗系统。
· 通过大型冷却机和PID精密控制盘面和作业温度。
· 抛光液冷却及循环系统，自动回流搅拌和过滤。
· 流量、温度、压力可视化管理控制系统。
产品性能
| 规格/型号 | 50英寸单面CMP抛光机 | 60英寸单面CMP抛光机 |
| 磨盘尺寸 | O.DØ1276×I.DØ315 | O.DØ1500×I.DØ330 |
| 研磨盘材质 | SUS 410 | SUS 410 |
| 陶瓷盘规格 | 485mm | 576mm |
| 磨盘转速 | 70rpm | 70rpm |
| 4轴压盘转速 | 60rpm | 60rpm |
| 供液 | 独立供液 | 独立供液 |
| 设备尺寸 | 1,630(W) ×2,500(L) ×2,700(H) | 1,800(W)×2,800(L)×3,000(H) |
| 设备电源 | AC380V, 3P, 50/60Hz | AC380V, 3P, 50/60Hz |
应用领域
4 " 6 " 8"硅片、蓝宝石、化合物半导体衬底衬底抛光